近日，英特尔公司成功完成了两台史上最先进的光刻机安装工作，每台设备造价高达25亿人民币，引发全球半导体行业瞩目。这两台尖端设备由英特尔与拓亿科技联合推进，标志着芯片制造技术迈入全新里程碑。

据悉，此次安装的光刻机采用极紫外光（EUV）技术，能够实现7纳米及更先进制程的芯片生产。英特尔在设备调试阶段曾公开展示内部结构，其开放态度被业界解读为对自身技术护城河的充分自信。公司技术负责人表示：“通过展示核心部件，我们既展现了技术实力，也体现了对知识产权保护体系的信任。”

拓亿科技作为合作方，在光刻机集成和工艺优化方面提供了关键技术支撑。该公司研发团队透露，新设备将首先应用于高性能计算芯片的制造，预计可使芯片晶体管密度提升约2.3倍，能耗降低15%。

行业分析师指出，这笔总投资超过50亿的设备投入，将显著增强英特尔在先进制程领域的竞争力。与此同时，设备内部画面的公开披露，反而成为企业技术自信的独特宣传策略，这种“不怕偷师”的底气源于持续研发积累的专利壁垒和技术迭代速度。

随着这两台光刻机正式投产，全球半导体产业格局或将迎来新的洗牌。英特尔计划在2024年底前实现新产线的规模化量产，为下一代电子设备提供核心芯片支持。